レベル：初級

This Project is to improve the Cpk by reducing the particle generated in PECVD with time. The particle problem leads to yield loss and high cost of production. The whole production time is devide into 3 stages. (1) Fit particle data with JMP Poisson & ZIP Distribution. (2) Combine particle data with JMP Goal Plot, Performance Plot & SPC Control Chart. (3) Compare the performance with Dunnett’s Method. (4) Combine Poisson Distribution with Goal Plot to modify the action plan for the next stages.
このプロジェクトは、PECVDで発生する粒子を時間経過とともに減少させ、Cpkを向上させるものである。粒子の問題は、歩留まりの低下と製造コストの上昇につながる。生産時間全体を3つのステージに分ける。(1) JMPポアソン分布とZIP分布で粒子データをフィットさせる。(2) JMPゴールプロット、パフォーマンスプロット、SPC管理図を用いて、粒子データを結合します。(3) Dunnett's Methodで性能を比較します。(4) ポアソン分布とゴールプロットを組み合わせて、次のステージのアクションプランを修正します。

Module Process Engineer from Applied Materials Corp., in JMP process. River had been a PECVD (Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition) engineer since 2015 for 5 years and as module process engineer since 2021 for 1 years. River’s research focus on defect /variability /COO reduction and Process Cpk /Matching /Output optimization; Identify opportunities or increase values for Applied service with those learnings.
アプライドマテリアルズ株式会社のJMPプロセスのモジュールプロセスエンジニア。2015年から5年間PECVD（Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition）エンジニアとして、2021年から1年間モジュール・プロセス・エンジニアとして勤務してきました。研究テーマは、欠陥・ばらつき・COOの低減、プロセスCpk・マッチング・アウトプットの最適化であり、これらの学習によりアプライドマテリアルズのサービスの機会を特定し、価値を向上させることに注力しています。